Selamat datang ke laman web kami!
Berita
-
Perbezaan antara teknologi sputtering dan sasaran sputtering dan aplikasinya
Kita semua tahu bahawa sputtering adalah salah satu teknologi utama untuk menyediakan bahan filem.Ia menggunakan ion yang dihasilkan oleh sumber ion untuk mempercepatkan pengagregatan dalam vakum untuk membentuk rasuk ion berkelajuan tinggi, membedil permukaan pepejal, dan ion bertukar tenaga kinetik dengan atom pada...Baca lagi -
Teknologi pembuatan sasaran aloi aluminium kromium
Sasaran aloi aluminium kromium, seperti namanya, adalah sasaran yang diperbuat daripada aloi kromium dan aluminium.Ramai rakan-rakan yang sangat ingin tahu tentang bagaimana sasaran ini dibuat.Sekarang mari pakar teknikal dari RSM untuk memperkenalkan kaedah pengeluaran sasaran aloi aluminium kromium.Pengeluaran s...Baca lagi -
Bidang aplikasi sasaran sputtering
Seperti yang kita semua tahu, terdapat banyak spesifikasi sasaran sputtering, dan medan aplikasinya juga sangat luas.Jenis sasaran yang biasa digunakan dalam bidang yang berbeza juga berbeza.Hari ini, mari belajar tentang klasifikasi medan aplikasi sasaran sputtering dengan e...Baca lagi -
Apakah sasaran polysilicon
Polysilicon adalah bahan sasaran sputtering yang penting.Menggunakan kaedah sputtering magnetron untuk menyediakan SiO2 dan filem nipis lain boleh menjadikan bahan matriks mempunyai rintangan optik, dielektrik dan kakisan yang lebih baik, yang digunakan secara meluas dalam industri skrin sentuh, optik dan lain-lain.pr...Baca lagi -
Jenis sasaran logam biasa
Seperti yang kita sedia maklum, bahan sasaran adalah bahan sasaran zarah bercas berkelajuan tinggi.Terdapat banyak analogi bahan sasaran, seperti logam, aloi, oksida dan sebagainya.Industri yang digunakan juga berbeza, dan ia digunakan secara meluas.Jadi apakah sasaran logam biasa?Berapa banyak ...Baca lagi -
Jenis sasaran seramik biasa
Dengan perkembangan industri maklumat elektronik, bahan berteknologi tinggi dipindahkan secara beransur-ansur dari helaian ke filem nipis, dan peranti salutan berkembang pesat.Bahan sasaran ialah bahan elektronik khas dengan nilai tambah yang tinggi, dan ia merupakan sumber bahan filem nipis yang terpercik....Baca lagi -
Kebaikan dan keburukan teknologi salutan sputtering
Baru-baru ini, ramai pengguna telah bertanya tentang kelebihan dan kekurangan teknologi salutan sputtering, Mengikut keperluan pelanggan kami, kini pakar dari Jabatan Teknologi RSM akan berkongsi dengan kami, berharap dapat menyelesaikan masalah.Mungkin ada perkara berikut: 1...Baca lagi -
Perbezaan antara salutan sejatan dan salutan sputtering
Seperti yang kita ketahui, penyejatan vakum dan percikan ion biasanya digunakan dalam salutan vakum.Apakah perbezaan antara salutan penyejatan dan salutan sputtering?Seterusnya, pakar teknikal dari RSM akan berkongsi dengan kami.Salutan penyejatan vakum adalah untuk memanaskan bahan yang akan disejat...Baca lagi -
Keperluan ciri sasaran sputtering molibdenum
Baru-baru ini, ramai rakan bertanya tentang ciri-ciri sasaran sputtering molibdenum.Dalam industri elektronik, untuk meningkatkan kecekapan sputtering dan memastikan kualiti filem yang didepositkan, apakah keperluan untuk ciri-ciri sasaran sputtering molibdenum?Sekarang...Baca lagi -
Bidang aplikasi bahan sasaran sputtering molibdenum
Molibdenum adalah unsur logam, terutamanya digunakan dalam industri besi dan keluli, kebanyakannya digunakan secara langsung dalam pembuatan keluli atau besi tuang selepas industri molibdenum oksida ditekan, dan sebahagian kecil daripadanya dicairkan menjadi ferro molibdenum dan kemudian digunakan dalam keluli membuat.Ia boleh meningkatkan allo...Baca lagi -
Pengetahuan penyelenggaraan sasaran sputtering
Ramai kawan-kawan tentang penyelenggaraan sasaran ada lebih kurang soalan, baru-baru ini ramai juga pelanggan yang berunding tentang penyelenggaraan masalah berkaitan sasaran, izinkan editor RSM untuk kami kongsikan tentang ilmu penyelenggaraan sasaran terpercik.Bagaimana harus tergagap...Baca lagi -
Prinsip salutan vakum
Salutan vakum merujuk kepada pemanasan dan penyejatan sumber penyejatan dalam vakum atau sputtering dengan pengeboman ion dipercepatkan, dan mendepositkannya pada permukaan substrat untuk membentuk satu lapisan atau filem berbilang lapisan.Apakah prinsip salutan vakum?Seterusnya, editor RSM akan...Baca lagi
