Molibdenum adalah unsur logam, terutamanya digunakan dalam industri besi dan keluli, kebanyakannya digunakan secara langsung dalam pembuatan keluli atau besi tuang selepas industri molibdenum oksida ditekan, dan sebahagian kecil daripadanya dicairkan menjadi ferro molibdenum dan kemudian digunakan dalam keluli membuat.Ia boleh meningkatkan kekuatan aloi, kekerasan, kebolehkimpalan dan keliatan, tetapi juga meningkatkan kekuatan suhu tinggi dan rintangan kakisan.Jadi apakah bidang yang digunakan untuk sasaran sputtering molibdenum?Berikut adalah perkongsian daripada editor RSM.
Penggunaan bahan sasaran sputtering molibdenum
Dalam industri elektronik, sasaran sputtering molibdenum digunakan terutamanya dalam paparan rata, elektrod sel solar filem nipis dan bahan pendawaian dan bahan penghalang semikonduktor.Ini adalah berdasarkan takat lebur tinggi molibdenum, kekonduksian elektrik yang tinggi, galangan spesifik yang rendah, rintangan kakisan yang lebih baik dan prestasi alam sekitar yang baik.
Molibdenum adalah salah satu bahan pilihan untuk sasaran sputtering paparan rata kerana kelebihannya hanya 1/2 impedans dan tegasan filem berbanding dengan kromium dan tiada pencemaran alam sekitar.Di samping itu, penggunaan molibdenum dalam komponen LCD boleh meningkatkan prestasi LCD dalam kecerahan, kontras, warna dan kehidupan.
Dalam industri paparan panel rata, salah satu aplikasi pasaran utama sasaran sputtering molibdenum ialah TFT-LCD.Penyelidikan pasaran menunjukkan bahawa beberapa tahun akan datang akan menjadi kemuncak pembangunan LCD, dengan kadar pertumbuhan tahunan kira-kira 30%.Dengan pembangunan LCD, penggunaan sasaran sputtering LCD juga meningkat dengan pesat, dengan kadar pertumbuhan tahunan kira-kira 20%.Pada tahun 2006, permintaan global untuk bahan sasaran sputtering molibdenum adalah kira-kira 700T, dan pada tahun 2007, ia adalah kira-kira 900T.
Sebagai tambahan kepada industri paparan panel rata, dengan pembangunan industri tenaga baharu, penggunaan sasaran sputtering molibdenum dalam sel fotovoltan suria filem nipis semakin meningkat.CIGS(Cu indium Gallium Selenium) lapisan elektrod bateri filem nipis terbentuk pada sasaran sputtering molibdenum dengan sputtering.
Masa siaran: Jul-16-2022