Selamat datang ke laman web kami!

NiCrCu Sputtering Target Lapisan Pvd Nipis Ketulenan Tinggi Dibuat Tersuai

Nikel Kromium Kuprum

Penerangan Ringkas:

kategori

Sasaran Sputtering Aloi

Formula kimia

NiCrCu

Komposisi

Nikel kromium tembaga

Kesucian

99.5%,99.7%,99.9%,99.99%

bentuk

Plat, Sasaran Lajur, katod arka, Dibuat tersuai

Proses pengeluaran

Pencairan Vakum

Saiz Tersedia

L≤2000mm,W≤350mm


Butiran Produk

Tag Produk

Sasaran Sputtering NiCrCu dihasilkan oleh Pencairan dan Penuangan bahan mentah Nikel Kromium Kuprum.Ia mempunyai kerintangan tinggi, pekali suhu rendah dan kepekaan tinggi.Nikel dan Kromium mempunyai tenaga permukaan yang serupa, dan komposisi pemendapan filem nipis NiCrCu adalah serupa dengan sasaran sputtering, jadi mudah untuk mengawal hasil pemendapan.

Bahan Khas Kaya pakar dalam Pembuatan Sasaran Sputtering dan boleh menghasilkan Bahan Sputtering Tembaga Kromium Nikel mengikut spesifikasi Pelanggan.Untuk maklumat lanjut, sila hubungi kami.


  • Sebelumnya:
  • Seterusnya: