AlNi Alloy Sputtering Target Lapisan PVD Nipis Ketulenan Tinggi Dibuat Tersuai

Sasaran sputtering aloi Nikel Aluminium dihasilkan dengan cara peleburan vakum dan metalurgi kuasa.Mencampurkan Aluminium dan Nikel dalam jumlah yang diperlukan untuk menyediakan jongkong tuangan AlNi.Jongkong tuang kemudian dipotong untuk membentuk bentuk sasaran yang dikehendaki.Ia mempunyai konsistensi yang tinggi, saiz butiran halus dan mikrostruktur homogen, tanpa sedutan gas atau liang.

Disebabkan gabungan bahan salutan dan substrat yang sangat baik, salutan AlNi mempunyai prestasi yang baik di bawah 700 ℃.Kini sasaran sputtering AlNi digunakan secara meluas dalam salutan tahan haus, termasuk alat pemotong, acuan, automotif dan industri pembinaan.

Bahan Khas Kaya ialah Pengeluar Sasaran Sputtering dan boleh menghasilkan Bahan Sputtering Nikel Aluminium mengikut spesifikasi Pelanggan.Untuk maklumat lanjut, sila hubungi kami.