Kini semakin ramai pengguna memahami jenis sasaran danaplikasinya, tetapi pembahagiannya mungkin tidak begitu jelas.Sekarang mariJurutera RSM berkongsi dengan andabeberapa induksi sasaran percikan magnetron.
Sasaran sputtering: sasaran salutan sputtering logam, sasaran salut sputtering aloi, sasaran salut sputtering seramik, sasaran sputtering seramik boride, sasaran sputtering seramik karbida, sasaran sputtering seramik fluorida, sasaran sputtering seramik nitrida, sasaran seramik oksida, sasar sputtering selenide, selenide ceramicciduttering sasaran, sasaran sputtering seramik sulfida, sasaran sputtering seramik telluride, sasaran seramik lain, sasaran seramik silikon oksida berdop kromium (CR SiO), sasaran indium fosfida (INP), sasaran arsenide plumbum (pbas), sasaran indium arsenide (InAs).
Sputtering magnetron secara amnya dibahagikan kepada dua jenis: sputtering DC dan sputtering RF.Prinsip peralatan sputtering DC adalah mudah, dan kadarnya juga pantas apabila logam sputtering.RF sputtering digunakan secara meluas.Selain memercikkan data konduktif, ia juga boleh memercikkan data bukan konduktif.Sasaran sputtering juga boleh digunakan untuk sputtering reaktif untuk menyediakan data kompaun seperti oksida, nitrida dan karbida.Jika frekuensi RF meningkat, ia akan menjadi gelombang mikro plasma sputtering.Pada masa ini, sputtering plasma gelombang mikro elektron cyclotron resonance (ECR) biasanya digunakan.
Masa siaran: Mei-26-2022