Bangunan moden mula menggunakan kawasan pencahayaan kaca yang besar.Aspek ini memberi kita bilik yang lebih cerah dan ufuk yang lebih luas.Sebaliknya, haba yang dihantar melalui kaca adalah lebih tinggi daripada dinding sekeliling, dan penggunaan tenaga keseluruhan bangunan meningkat dengan ketara.
Berbanding dengan kadar penggunaan lebih daripada 90% kaca sinaran rendah di negara maju, kadar penembusan kaca E rendah di China hanya kira-kira 12%, dan China masih mempunyai banyak ruang untuk pembangunan. Walau bagaimanapun, berbanding dengan kaca biasa dan kaca rendah-E dalam talian, kos pengeluaran kaca LowE luar talian adalah tinggi, yang menyekat penggunaan tahap tertentu. Perusahaan pemprosesan kaca domestik mempunyai kewajipan untuk terus mengurangkan kos pengeluaran produk salutan, mempercepatkan pelaksanaan, menjimatkan tenaga, menambah baik alam sekitar, dan mencapai pembangunan mampan sosial.
1、Pengaruh bentuk sasaran
Kawasan salutan yang besar sering menggunakan bahan sasaran mengikut bentuk, termasuk orientasi satah dan orientasi putaran.Sasaran planar am termasuk sasaran tembaga, sasaran perak,Nsasaran i-Cr dan sasaran grafit.Sasaran berputar umum mempunyai sasaran aluminium zink, sasaran timah zink, sasaran aluminium silikon, sasaran timah, sasaran titanium oksida, sasaran aluminium zink oksida dan sebagainya. Bentuk sasaran akan menjejaskan kestabilan dan sifat filem salutan sputtering magnetron, dan penggunaan kadar sasaran adalah sangat tinggi.Selepas menukar perancangan bentuk sasaran, kualiti dan kuasa pengeluaran salutan boleh dipertingkatkan dan kos dapat dijimatkan.
2、Pengaruh ketumpatan relatif dan kelegaan sasaran
Ketumpatan relatif dalam sasaran ialah nisbah ketumpatan praktikal kepada ketumpatan teori sasaran, ketumpatan teori sasaran komponen tunggal ialah ketumpatan kristal, dan ketumpatan teori aloi atau sasaran campuran dikira mengikut teori. ketumpatan setiap unsur dan bahagian dalam aloi atau campuran..Susunan sasaran penyembur haba adalah berliang, beroksigen tinggi (walaupun dengan semburan vakum, pengeluaran oksida dan sebatian nitrus dalam sasaran aloi tidak dapat dielakkan), dan rupanya kelabu dan tidak mempunyai kilauan logam.Kekotoran dan lembapan yang diserap adalah punca utama pencemaran.
3、Pengaruh saiz zarah sasaran dan arah kristal
Dalam berat sasaran yang sama, sasaran dengan saiz zarah kecil adalah lebih cepat daripada sasaran dengan saiz zarah besar.Ini terutamanya kerana sempadan zarah dalam proses percikan mudah diceroboh, lebih banyak sempadan zarah, lebih cepat pembentukan filem.Saiz zarah bukan sahaja menjejaskan kelajuan sputtering, tetapi juga mempengaruhi kualiti pembentukan filem. Contohnya, dalam proses pengeluaran produk EowE, NCr bertindak sebagai lapisan penyelenggaraan lapisan reflektif inframerah Ag, dan kualitinya mempunyai pengaruh yang besar terhadap produk salutan.Oleh kerana pekali kepupusan besar lapisan filem NiCr, ia biasanya nipis (kira-kira 3nm). Jika saiz zarah terlalu besar, masa sputtering menjadi lebih pendek, ketumpatan lapisan filem menjadi lebih teruk, kesan penyelenggaraan lapisan Ag berkurangan, dan pengoksidaan salutan produk salutan terhasil.
kesimpulan
Perancangan bentuk bahan sasaran terutamanya mempengaruhi kadar penggunaan bahan sasaran.Perancangan saiz yang munasabah boleh meningkatkan kadar penggunaan bahan sasaran dan menjimatkan kos. Lebih kecil saiz zarah, lebih cepat kelajuan salutan, lebih baik keseragaman.Semakin tinggi ketulenan dan ketumpatan, semakin rendah keliangan, semakin baik kualiti filem, dan semakin rendah kebarangkalian pengurangan sanga nyahcas.
Masa siaran: Apr-27-2022