Selamat datang ke laman web kami!

Sasaran sputtering – sasaran kromium nikel

Sasaran ialah bahan asas utama untuk penyediaan filem nipis.Pada masa ini, kaedah penyediaan dan pemprosesan sasaran yang biasa digunakan terutamanya termasuk teknologi metalurgi serbuk dan teknologi peleburan aloi tradisional, sementara kami menggunakan teknologi peleburan vakum yang lebih teknikal dan agak baharu.

Penyediaan bahan sasaran nikel-kromium adalah untuk memilih nikel dan kromium dengan ketulenan yang berbeza sebagai bahan mentah mengikut keperluan ketulenan pelanggan yang berbeza, dan menggunakan relau peleburan induksi vakum untuk peleburan.Proses peleburan secara amnya termasuk pengekstrakan vakum dalam kebuk peleburan – relau basuh gas argon – pengekstrakan vakum – perlindungan gas lengai – pengaloian peleburan – penapisan – tuangan – penyejukan dan penyahcukaian.

Kami akan menguji komposisi jongkong tuang, dan jongkong yang memenuhi keperluan akan diproses dalam langkah seterusnya.Kemudian jongkong nikel-kromium ditempa dan digulung untuk mendapatkan plat bergulung yang lebih seragam, dan kemudian plat bergulung dimesin mengikut keperluan pelanggan untuk mendapatkan sasaran nikel-kromium yang memenuhi keperluan pelanggan.


Masa siaran: Feb-01-2023