Mengenai produk sasaran, kini pasaran aplikasi semakin luas, tetapi masih terdapat beberapa pengguna tidak begitu memahami tentang penggunaan sasaran, biarkan pakar dari Jabatan teknologi RSM untuk membuat pengenalan terperinci mengenainya,
1. Mikroelektronik
Dalam semua industri aplikasi, industri semikonduktor mempunyai keperluan yang paling mendesak untuk kualiti filem sputtering sasaran.Wafer silikon 12 inci (300 epistaksis) kini telah dihasilkan.Lebar sambungan semakin berkurangan.Pengeluar wafer silikon memerlukan saiz besar, ketulenan tinggi, pengasingan rendah dan butiran halus sasaran, yang memerlukan struktur mikro yang lebih baik bagi sasaran yang dihasilkan.
2, paparan
Paparan panel rata (FPD) telah banyak memberi kesan kepada monitor komputer dan pasaran televisyen berasaskan tiub sinar katod (CRT) selama ini, dan juga akan memacu teknologi dan permintaan pasaran untuk bahan sasaran ITO.Terdapat dua jenis sasaran iTO.Satu ialah menggunakan keadaan nanometer indium oksida dan serbuk oksida timah selepas pensinteran, yang lain adalah menggunakan sasaran aloi timah indium.
3. Penyimpanan
Dari segi teknologi storan, pembangunan cakera keras berketumpatan tinggi dan berkapasiti besar memerlukan sejumlah besar bahan filem keengganan gergasi.Filem komposit berbilang lapisan CoF~Cu ialah struktur filem keengganan gergasi yang digunakan secara meluas.Bahan sasaran aloi TbFeCo yang diperlukan untuk cakera magnetik masih dalam pembangunan selanjutnya.Cakera magnet yang dihasilkan dengan TbFeCo mempunyai ciri kapasiti storan yang besar, hayat perkhidmatan yang panjang dan kebolehpadaman tanpa sentuhan berulang.
Pembangunan bahan sasaran:
Pelbagai jenis bahan filem nipis yang memercik telah digunakan secara meluas dalam litar bersepadu semikonduktor (VLSI), cakera optik, paparan satah dan salutan permukaan bahan kerja.Sejak 1990-an, pembangunan segerak bahan sasaran sputtering dan teknologi sputtering telah banyak memenuhi keperluan pembangunan pelbagai komponen elektronik baru.
Masa siaran: Ogos-08-2022