Bagaimana untuk meningkatkan kadar penggunaan bahan sasaran molibdenum

Sasaran molibdenum terpercik telah digunakan secara meluas dalam industri elektronik, sel suria, salutan kaca, dan bidang lain kerana kelebihan yang wujud.Dengan perkembangan pesat teknologi moden dalam pengecilan, penyepaduan, pendigitalan dan kecerdasan, penggunaan sasaran molibdenum akan terus meningkat, dan keperluan kualiti untuknya juga akan menjadi semakin tinggi.Jadi kita perlu mencari cara untuk meningkatkan kadar penggunaan sasaran molibdenum.Kini, editor RSM akan memperkenalkan beberapa kaedah untuk meningkatkan kadar penggunaan sasaran molibdenum yang terpercik untuk semua orang

1. Tambah gegelung elektromagnet pada bahagian belakang

Untuk meningkatkan kadar penggunaan sasaran molibdenum terpercik, gegelung elektromagnet boleh ditambah pada bahagian belakang sasaran molibdenum terpercik Magnetron planar, dan medan magnet pada permukaan sasaran molibdenum boleh ditingkatkan dengan meningkatkan arus gegelung elektromagnet, untuk meningkatkan kadar penggunaan sasaran molibdenum.

2. Pilih bahan sasaran berputar tiub

Berbanding dengan sasaran rata, memilih struktur sasaran berputar tiub menyerlahkan kelebihan substantifnya.Secara amnya, kadar penggunaan sasaran rata hanya 30% hingga 50%, manakala kadar penggunaan sasaran berputar tiub boleh mencapai lebih 80%.Selain itu, apabila menggunakan sasaran sputtering Magnetron tiub berongga berputar, kerana sasaran boleh berputar di sekeliling pemasangan magnet bar tetap sepanjang masa, tidak akan ada penyusunan semula pada permukaannya, jadi jangka hayat sasaran berputar biasanya lebih daripada 5 kali lebih lama. daripada sasaran pesawat.

3. Gantikan dengan peralatan sputtering yang baru

Kunci untuk meningkatkan kadar penggunaan bahan sasaran adalah untuk menyelesaikan penggantian peralatan sputtering.Semasa proses sputtering bahan sasaran sputtering molibdenum, kira-kira satu perenam daripada atom sputtering akan memendap pada dinding ruang vakum atau pendakap selepas terkena ion hidrogen, meningkatkan kos pembersihan peralatan vakum dan masa henti.Jadi menggantikan peralatan sputtering baharu juga boleh membantu meningkatkan kadar penggunaan sasaran molibdenum sputtering.