Sasaran Sputtering MoNb Salutan PVD Filem Nipis Ketulenan Tinggi Dibuat Tersuai

Sasaran Molibdenum Niobium disediakan dengan mengadun serbuk Molibdenum dan Niobium diikuti dengan pemadatan kepada ketumpatan penuh.Bahan yang dipadatkan dengan itu disinter secara pilihan dan kemudian dibentuk menjadi bentuk sasaran yang diingini.
Sasaran sputtering Molibdenum Niobium mempunyai takat lebur, kekuatan dan keliatan yang tinggi pada suhu tinggi.Ia juga mempamerkan kekonduksian haba dan elektrik yang sangat baik dengan pekali pengembangan haba yang rendah.Menambah Niobium ke dalam Molibdenum meningkatkan piksel paparan kristal cecair sekurang-kurangnya tiga kali ganda.

Sasaran sputtering Molibdenum Niobium ialah bahan kritikal untuk Paparan Panel Rata (FPD) dan digunakan dalam kuantiti yang banyak dalam aloi molibdenum-niobium untuk paparan kristal cecair kuboid sumber Paparan Kristal Cecair (LCD), paparan pelepasan medan, paparan pemancar cahaya organik, plasma panel paparan, paparan cathodoluminescence, paparan pendarfluor vakum, paparan fleksibel TFT dan skrin sentuh, dsb. Penyejatan rasuk elektron proses paparan panel boleh membuat deposit Niobium di hujung atas pemancar, yang akan sangat membantu dalam membangunkan skrin besar dengan definisi tinggi.

Bahan Khas Kaya pakar dalam Pembuatan Sasaran Sputtering dan boleh menghasilkan Bahan Sputtering Molibdenum Niobium mengikut spesifikasi Pelanggan.Untuk maklumat lanjut, sila hubungi kami.