Selamat datang ke laman web kami!

CoFeTaZr Aloi Sputtering Sasaran Filem Nipis Ketulenan Tinggi Pvd Salutan Dibuat Tersuai

Kobalt Besi Tantalum Zirkonium

Penerangan Ringkas:

kategori

Sasaran Sputtering Aloi

Formula kimia

CoFeTaZr

Komposisi

Kobalt Besi Tantalum Zirkonium

Kesucian

99.9%,99.95%,99.99%

bentuk

Plat, Sasaran Lajur, katod arka, Dibuat tersuai

Proses pengeluaran

Pencairan Vakum

Saiz Tersedia

L≤200mm,W≤200mm


Butiran Produk

Tag Produk

Sasaran sputtering Tantalum Zirkonium Besi Kobalt dibuat dengan cara pencairan vakum.Proses pengeluaran ini secara berkesan dapat melindungi juzuk utama daripada pengoksidaan dan memastikan struktur mikro homogen, saiz butiran seragam dan konsistensi tinggi filem termendap.

Selepas rawatan haba, PTF sasaran boleh dipertingkatkan dengan ketara, jadi ia sering digunakan untuk bahan lapisan magnet lembut dalam lapisan rakaman magnet berserenjang.

Bahan Khas Kaya pakar dalam Pembuatan Sasaran Sputtering dan boleh menghasilkan Bahan Sputtering Tantalum Zirkonium Besi Cobalt mengikut spesifikasi Pelanggan.Untuk maklumat lanjut, sila hubungi kami.


  • Sebelumnya:
  • Seterusnya: